日本OTSUKA大塚显微分光膜厚仪 OPTM series

特点

非接触、非破坏式，量测头可自由集成在客户系统内

初学者也能轻松解析建模的初学者解析模式

高精度、高再现性量测紫外到近红外波段内的绝对反射率，可分析多层薄膜厚度、光学常数（n：折射率、k：消光系数）

单点对焦加量测在1秒内完成

显微分光下广范围的光学系统（紫外 ~ 近红外）

独立测试头对应各种inline定制化需求

最小对应spot约3μm

可针对超薄膜解析nk

量测项目

绝对反射率分析

多层膜解析（50层） 光学常数（n：折射率、k：消光系数）

膜或者玻璃等透明基板样品，受基板内部反射的影响，无法正确测量。OPTM系列使用物镜，可以物理去除内部反射，即使是透明基板也可以实现高精度测量。此外，对具有光学异向性的膜或SiC等样品，也可不受其影响，单独测量上面的膜。

应用范围

半导体、复合半导体：硅半导体、碳化硅半导体、砷化镓半导体、光刻胶、介电常数材料

FPD：LCD、TFT、OLED（有机EL）

资料储存：DVD、磁头薄膜、磁性材料

光学材料：滤光片、抗反射膜

平面显示器：液晶显示器、薄膜晶体管、OLED

薄膜：AR膜、HC膜、PET膜等

其它：建筑用材料、胶水、DLC等

产品规格

半导体行业 - SiO2、SiN膜厚测定案例

半导体工艺中，SiO2用作绝缘膜，而SiN用作比SiO2更高介电常数的绝缘膜，或是用作CMP去除SiO2时的阻断保护，之后SiN也被去除。绝缘膜的性能像这样被使用时，为了精确的工艺控制，有必要测量这些膜厚度。

FPD行业 - 彩色光阻膜厚测定

彩色滤光片薄膜的制程中，一般将彩色光阻涂布在整个玻璃表面，通过光刻进行曝光显影留下需要的图案。RGB三色依次完成此工序。

彩色光阻的厚度不恒定是导致RGB图案变形、彩色滤光片颜色偏差的原因，因此对彩色光阻的膜厚管理非常重要。

日本OTSUKA大塚显微分光膜厚仪 OPTM series